ENGLISH | 中文
首页 > 半导体产品 > DIS8000 第二光学检测系统
产品介绍
DIS8000 第二光学检测系统
品牌:QMC
编号:光学检测系统
应用场景:半导体后道封测,切割工艺后

DIS8000 第二光学检测系统,DIS8000主要被设计用于检测(目检)晶圆切割工艺后的框架晶圆。 该系统能够处理带框架/环的8英寸尺寸的晶圆和带框架/环的12 英寸尺寸的晶圆。在晶圆切割工艺后进行晶圆的检查,以检查切割前可观察到的瑕疪以及切割工艺后产生的缺陷。设备具有 两种类型的瑕疪识别方法;在瑕疪芯片上喷墨打标和记录在晶 圆图系统里。

技术优势

• 用于 8英寸和12英寸晶圆尺寸的单晶圆自动加 载机 
• 一个用于标准开放式晶圆匣的加载端口

技术参数

• 配备五个物镜的高倍显微镜(范围为2.5x 至 50x) 
• XY 移动的电动载物台
• 可容纳不同的晶圆图 
• 图像采集系统 
• 用户定义的拒收代码和检验后的汇总批次报告 
• 内置条形码扫描仪,用于从服务器下载/上传晶圆图